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日 時
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平成22年6月10日（木） 13：20～16：40 |
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会 場
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大阪市立工業研究所 4階 小講堂 |
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講演内容
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ウェットプロセスによる機能マイクロ・ナノ構造の形成
～プロセス高度化と無電解反応機構の理論的解析～
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早稲田大学 本間敬之氏 |
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めっきに代表されるウェットプロセスは原理的に極めて高精度な制御が可能であり，今後も一層の発展が望まれている．本講演では，同プロセスを用いた新規な機能マイクロ・ナノ構造形成のアプローチを概説したのち，特に無電解析出反応系に着目し，その素過程レベルからの反応機構を詳細に理解するために量子化学的アプローチから解析した事例を紹介する |
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無電解めっきの分類とその用途 |
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上村工業（株）中央研究所 田邉克久氏 |
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近年、電子部品の小型化、軽量化、多機能化に伴い様々な形状、材質の部品を金属化し、様々な特性（回路形成、電気接触接点、耐食、硬さ、耐摩耗、非磁性、はんだ付け、導電性、拡散防止）を付与する要求が増えてきている。そのような中、めっき液の中に浸漬するだけで様々な素材表面を金属化することができる無電解めっきに対する期待が高い。今回、実用化されている無電解めっきの種類を用途別に分類するとともに、無電解めっきの適用実例を紹介していく。 |
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参加費
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3,000円（テキスト代),学生会員 無料 |
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| 申込方法 |
参加ご希望の方は、支部ホームページより お申込みください。（しばらくお待ちください。 あるいは、FAXまたはメールに「(社)表面技術協会関西支部 第２回表面物性研究会」と題記し，氏名・勤務先・所在地・電話番号を明記の上，下記宛までお送り下さい。
参加費は当日受付でお支払い下さい。
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| 定 員 |
70名 （先着順） |
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| 申込締切 |
平成22年6月1日（火） (厳守) |
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申込み先
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(社)表面技術協会 関西支部 事務局 |
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〒594-1157 大阪府和泉市あゆみ野2-7-1
大阪府立産業技術総合研究所 （社）大阪府技術協会内
TEL：0725-51-2541、 FAX：0725-53-2332（事務局）
E-mail：jimu<>hyoukyo-kansai.info
（<>は，@に変えてください．）
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